超硬質膜形成技術の研究
渋谷 哲夫 (954255)
蔵持 将之 (954219)本研究では,超硬質膜の一つである立方晶窒化ホウ素(c-BN)膜の実用化を目的としている.c-BN膜はダイヤモンドに次ぐ高硬度を有し,摩擦環境下では優れた耐摩耗性を示すことが期待されている.また,化学的安定性にも優れていることから,ダイヤモンドでは,切削できない鉄系材料の切削にも適用できると考えられており,優れたトライボロジー特性を有する材料としても期待されている.当研究室では,このc-BN膜に残留する内部応力が高いことから,膜を厚くできないという問題がある.