原子間力顕微鏡によるナノリソグラフィーの研究
伊藤 忠範 （954124)
伊東 宏典 （954125) 内田 和彦 （954132)マイクロマシンとしての微細形状加工は，リソグラフィーにデポジションとエッチングを組み合わせた半導体製造プロセス技術によるものがほとんどである．一方，将来のナノテクノロジーで原子・分子を操作することによって軸受けなどの各種機械要素や装置を構成することが考えられている．これに対して我々は，マイカ表面へのナノメータオーダの加工がマイカへき開面間隔1nmの積層単位で生じることを明らかにし，さらに加工深さ1nmにする条件を見つけるために，荷重依存性や加工速度依存性を検討してきた．