イオンアシスト蒸着法による高機能薄膜形成技術の研究


 

 
 
 

 

 

 金子 達雄 (954155)    斉藤 喬士 (954234)


 最近、電気通信・情報など各種電子応用機器において、装置の高性能化や軽量化が進展するにつれ、微小量の摩耗・微小な摩擦力変動が問題になり、マイクロトライボロジー(極表面層における摩擦、摩耗)の重要性が増大している。これらの特性改善の手段として、高機能薄膜形成技術が挙げられる。

 本研究では反応性イオンプレーティング法を用いて、高機能薄膜でも特に注目されているB-C-N三元系薄膜に類するB-C系薄膜の形成を目的とする。